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이관형 교수 연구팀(제 1저자: 김지우 박사과정)이 복잡한 3차원 미세구조체를 제작을 위한 그래핀 기반 식각 마스크를 개발하였다. 원자 수준의 두께를 가지면서 변형가능한 그래핀 기반 식각 마스크를 이용하면 식각 과정 중 마스크가 하단의 기판을 감쌀 수 있게 되며, 이를 통해 기존 공정 방식으로 쉽게 구현이 어려운 복잡한 3차원 미세구조체를 대면적으로 제작할 수 있다. 연구팀은 개발한 공정 방식을 이용해 실리콘 표면에 3차원 요각구조체를 제작하여 옴니포빅 표면을 구현하였으며, 이 외에도 해당 기술은 3차원 마이크로 제작공정과 관련한 다양한 연구 분야의 발전에 기여할 것으로 기대된다. 본 연구 결과는 나노 분야 저명 국제학술지 ACS Nano에 게재되었다.